台灣鍍膜科技協會電子報 第1期 2010年10月25日出刊
1.理事長的話
鍍膜科技在學術上涉及基礎的物理和化學，在工程應用上與電機、機械、材料、化工等領域息息相關，在產業上則包括影響國內經濟甚鉅的半導體、光電及相關的製程和研究設備等產業，以其重要性來說與近年來重要的奈米、能源、環境等國際議題也有密切的關係。由於國際上高科技產品逐漸走向「輕、薄、短、小」的趨勢，相較於過去使用的「塊材」而言，鍍膜在製程的關鍵技術上已面臨更大的困難與挑戰，也由於尺寸大小所引起的相關「介面」和「表面」等現象，在學術上也開拓了更多有趣而且具開創性的研究議題。
台灣鍍膜科技協會是國內相關的學術和產業界最重要的專業組織之一，本協會自1999年創立至今已有十一年頭的歷史，在歷屆理事長的辛苦經營和全體理監事與會員的努力之下，目前已逐漸建立規模，協會目前有會員將近五百人，也日益彰顯出其在國內外專業領域的重要性。
個人承蒙第六屆理監事的抬愛，於今年初起接任理事長一職，也時時期勉自己務必全力做好這一棒的傳承工作。協會經過前兩屆理監事會議討論之後，已確定成立學術委員會、獎項委員會、出版委員會、產業委員會及會員委員會五個工作委員會並且明訂各委員會職掌，年度工作計畫及各項活動也將陸續藉由出版的電子報及通訊等，讓全體會員對於會務有更多的了解，也期望得到大家更多的支持。在年度工作目標方面，我們將透過各種協會活動及電子或平面刊物的方式與產業界有更多的互動，也將積極推動參與國際研討會及與鍍膜相關之學會組織等活動，以提升本協會在國際上的能見度。此外也將透過舉辦短期課程、專題研討會等方式以全面提升國內鍍膜科技的水準，同時也期望藉由舉辦各類活動及會員朋友的支持下，拓展本會的經費來源。
學術委員會已為今年的年會及2011年的國際研討會規劃以下六個主題方向：
(1)永續能源鍍膜；
(2)奈米結構及奈米複合材料鍍膜；
(3)光學、光電及介電鍍膜；
(4)磨擦及保護鍍膜；
(5)生物學鍍膜；
(6)一般主題；
這些方向也是最近國際上鍍膜相關領域的重要議題；我們期望全體會員在這些重要議題上投注更多的心力，不但能帶動國內學術上進一步的提升，也同時帶給國內產業更大的契機和更大的產值，更進而提升本協會在國內外的能見度及影響力。 本屆理事會第一期刊物的順利出版要感謝出版委員會及秘書處同仁的付出，也藉此機會感謝所有工作委員會、各理監事委員及全體會員的熱心參與，如果在會務上或本刊物有任何建議或資訊，敬請直接聯絡個人或秘書處同仁。
敬祝
順心如意 !!
理事長 黃肇瑞 敬上99年10月20日
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聯絡電話：06-2348188或06-2752122
2.協會概況
本協會之第六屆第三次理監事會議， 已於九十九年五月二十二日上午十時至十二時台北科技大學召開。會務相關報告如下：本屆「副理事長」由呂福興教授擔任；「獎項委員會」主任委員由杜正恭教授擔任；「學術委員會」主任委員由朱瑾教授擔任；「產業服務委員會」主任委員由由沈大欽總經理擔任；「會員委員會」主任委員由蔡丕椿教授擔任；「出版委員會」主任委員由李志偉教授擔任；協會秘書長由丁志明教授擔任。
第六屆岸薄膜科學與技術研討會於九十九年八月二十日至八月二十二日在科學院蘭州化學物理研究所順利舉辦完成，成果豐碩；本活動並獲得國科會補助經費。另外，日前廣州國際真空學會來函邀請本會本會作為「2011年廣州國際真空工業技術展」協辦單位，相關參展，並免費為本協會設置一展覽位，此案交由產業服務委員會聯繫，屆時代表台灣鍍膜科技協會參加展覽。
在本協會之第六屆第二次理監事會議中決議，2010年台灣鍍膜科技協會年會將委由明道大學主辦，年會日期為九十九年十二月十日至十一日，地點在明道大學舉行。詳情請參考 http://www.mdu.edu.tw/~tact2010/。
在本協會之第六屆第二次理監事會議中亦已決議，有關TACT2011國際研討會，將委由國立成功大學主辦，研討會時間為2011年11月20日(日)至23日(三)，地點將為墾丁福華飯店，預計將邀請國際著名學者擔任邀請講，並將向下列單位與機構包括：教育部、國科會、經濟部、外交部、成功大學5年500億專案來申請經費補助。
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聯絡電話：06-2752122或06-2757575轉62936
3.短期課程
Prof. Greene講授『Fundamentals of Thin Film Technology and Introduction to Nanostructures( 鍍膜科技之基礎與奈米結構之介紹)』(2010.11.13)
台灣鍍膜科技協會國立台北科技大學機電學院共同邀請美國知名學者—Dr. Joseph E. Greene來台開授短期課程，Dr. Joe Greene為美國University of Illinois講座教授、美國國家科學院院士，同時也是SCI國際期刊—Thin Solid Films之主編，曾受邀請擔任大會主講人達376次，並曾開授多次薄膜相關課程。
本次短期課程之主要內容及目標如下:
l Understand the primary experimental variables and surface reaction paths controlling nucleation/growth kinetics and microstructural evolution during vapor-phase deposition.
l Learn about the primary classical and quantum effects which controllably alter the properties of increasingly small nanostructures.
l Understand the mechanisms controlling self-assembly and self-organization during nanostructure growth.
l Learn how to better design nanostructure growth processes.
本次舉辦之短期課程適合參加對象為學術界之老師及學生、產業界鍍膜相關之專業人才，此短期課程內容包含最基礎、最重要的鍍膜科技知識及應用科技，對於從事太陽能、光電、半導體等鍍膜科技相關的研究及產業，必有重大的幫助及影響，歡迎踴躍報名。
課程時間：99.11.13. (星期六) 09:00 — 17:00
上課地點：國立台北科技大學綜合科館第三演講廳 (台北市忠孝東路三段一號，捷運南港線忠孝新生站四號出口)
費用：會員或5人以上同時報名，享有8折優惠；永久團體會員可享有三人免費之優待(皆含午餐、講義、證書)
99.11.05 前：個人 4000 元、學生 2000 元
99.11.05 後：個人 5000 元、學生 3000 元
※ 如有任何相關問題，請電洽 06-2752122 或是 06-2757575 轉 62936 林小姐
※ 有關報名方式及加入本會會員辦法請至 http://www.tact.org.tw/ 查詢。
4.最新消息
l 恭賀本協會獎項委員會主任委員杜正恭教授當選中國材料科學學會會士。
l 恭賀本協會學術委員會主任委員朱瑾教授榮升台灣科技大學工學院副院長。
l 明志科技大學為推展薄膜科技研究與應用，自99年8月1日起成立薄膜科技與應用中心，由本協會理事謝章興院長擔任中心主任，李志偉教授擔任產學組組長。
5.近期活動介紹
2010年冶金暨鍍膜國際研討會 (2010 ICMCTF) (2010.04.26~04.30)
由美國真空學會表面工程分部主辦的第37屆2010年冶金暨鍍膜國際研討會於4月26日至30日假美國加州聖地牙哥市的 Town & Country Hotel 舉辦。這是會議的主題包括以下12個項目：
A. Coatings for Use at High Temperature
B. Hard Coatings and Vapor Deposition Technology
C. Fundamentals and Technology of Multifunctional Thin Films:
D. Carbon & Nitride Materials: Synthesis Structure-Property Relationships: Towards Optoelectronic Device Applications
E. Tribology and Mechanical Behavior of Coatings and Thin Films
F. Characterization: Linking Synthesis Properties and Microstructure
G. Applications, Manufacturing, and Equipment
H. New Horizons in Coatings and Thin Films
TS1. Experimental and Computational Studies of Molecular Materials and Thin Films
TS2. Coatings for Fuel Cells & Batteries
TS3. Bioactive Coatings & Surface Biofunctionalization
TS4. Surface Engineering for Thermal Transport, Storage, and Harvesting
本次會議共有來自世界各國學者專家發表了六百餘篇文章，其中來自台灣地區的產學研界的論文就超過100篇。台灣鍍膜科技協會為服務本協會會員以及國內產學研界人士參加該國際研討會，仍然依循往例 繼續主辦2010 ICMCTF 國際會議參訪團，由明道大學材料系張銀祐教授負責擔任領隊，共有33位教授學生與業界專家參加。
由於冶金暨鍍膜國際研討會是全世界有關鍍膜領域規模最大的會議之一，並且有非常多業界發表最先進的鍍膜科技與薄膜性質分析技術，因此對於參加會議的教授與學生來說都是極佳的學術饗宴，因此每年也吸引非常多的學者專家參加會議，吸取全世界最先進的技術與經驗，對於我國發展薄膜科技與相關產業有極大的幫助。
會議期間，本協會秘書長成功大學材料系丁志明特聘教授以台灣鍍膜科技協會的名義，特別召集了將近四十位來自台灣地區的各大學教授、學生、業界專家與美國地區的幾位華人研究學者 及家眷，到會場附近的一間日式自助餐廳聚餐， 席間大家非常歡樂，充分交換學術研究和指導學生的心得，並聯絡同儕與師生間的感情，成功達到學術交流與輕鬆休閒的雙重目的。
本協會將繼續本著為台灣地區會員與國內產學研界人士服務的目的，將持續舉辦2011年冶金暨鍍膜國際研討會的參訪行程，請大家拭目以待。
2010年冶金暨鍍膜國際研討會會場一景 2010年冶金暨鍍膜國際研討會海報張貼發表會場 台灣鍍膜科技協會舉辦的聚餐活動
Thin Films 2010國際研討會 (2010.07.11~07.14)
由新加坡南洋理工大學Prof. Sam Zhang 所主辦的Thin Films 2010 國際研討會將於7月11日至14日假中國大陸哈爾濱市的哈爾濱工業大學舉行，該研討會的主題包括以下十二項目：
(1) Biological coatings,
(2) Coatings for clean energy,
(3) Electrochemistry of thin films,
(4)Ferroelectric and piezoelectric thin films,
(5)Mechanical properties of thin films,
(6) Nanostructured and nanocomposite films and coatings,
(7) Optoelectronic and dielectric thin films,
(8) Ordered nanostructural thin films,
(9) Organic/polymer thin films and devices,
(10) Oxide thin films and nanostructures,
(11) Shape memory thin films and surface modification of shape memory materials, (12)Advanced Polymer Matrix Composites。
其中(2) Coatings for clean energy 由成功大學材料系丁志明特聘教授(本協會秘書長)與明志科技大學環資學院謝章興院長(本協會常務理事)擔任symposium chair。
由於該國際研討會為亞洲地區規模最大的鍍膜科技領域的會議，因此均吸引全世界為數眾多的學者專家與會，今年已有超過900篇的文章排入口頭與壁報發表，具有極多創新的研究成果。台灣鍍膜科技協會為服務本協會會員以及國內產學研界人士參加Thin Films 2010 國際研討會，主辦Thin Films 2010 國際會議參訪團，共有七十餘位國內的教授與學生參加，會後並安排哈爾濱地區的旅遊，完成一個具有論文發表、學習研討與經驗交流的國際學術活動。
第六屆海峽兩岸薄膜科學技術研討會(2010.08.20~08.22)
作為海峽兩岸薄膜科技領域的定期交流活動，一年一度的兩岸鍍膜界盛事-海峽兩岸薄膜科學與技術研討會即將於8月20日至8月22日假中國大陸甘肅省蘭州市的中國科學院蘭州化學物理研究所舉行。本研討會已進入第六屆，今年由中國機械工程學會表面工程分會與臺灣鍍膜科技協會主辦，由中國科學院蘭州化學物理研究所與固體潤滑國家重點實驗室承辦，特別邀請11位台灣各學界的教授和14位大陸薄膜科技領域的著名專家學者就薄膜科技的現狀和未來發表演講。
海峽兩岸薄膜科學與技術研討會對於促進兩岸薄膜科技領域的同行交流，推進兩岸薄膜科技、產業合作和發展有非常重要的貢獻。本研討會除了進行論文發表，會議中將進行座談會，針對兩岸學會和協會合作及加強交流等議題進行討論，會後並將參觀中科院蘭州化物所。
本次會議內容極為廣泛，涵蓋了功能性ZnO奈米材料與薄膜、類鑽碳、奈米複合薄膜、太陽能薄膜、熱阻障噴塗層、金屬玻璃薄膜、生醫材料薄膜與表面處理等領域，在這三天的會議當中，兩岸學者都認為在薄膜技術領域之發展有許多合作之發展契機，產業及學術交流日益穩定發展。透過類似本次之兩岸研討會交流，雙方已有共識，可進一步促進台灣和大陸之產業與學術研究發展。因此本次會議非常成功，並且希望下次會議可再多多宣傳，並吸引更多產業界的人士與會，同時可再增加高技術薄膜產品的展示，多一些會議代表的相互交流時間，以增進兩岸學者和產業界的交流與合作等，相信下一屆海峽兩岸的薄膜技術會議會辦得更好。
詳情請參考本次會議網站 (http://www.licp.cas.cn/csct2010)
理事長致贈紀念品給大會主席 研討會開會情形 至蘭州物化所參觀
6.產業動態 (節錄自今週刊、材料世界網電子報與工業材料雜誌)
(詳細內容請點選電子報網頁版本，即可進入相關網站連結)
7.永久會員介紹
龍雨企業股份有限公司自一九八八年七月創立至今，始終秉持追求卓越，誠信之理念，以完善的服務，專業的技術，最好的品質，盡本分的擔任專業熱處理廠之角色以服務大眾。本公司以專業技術及實務經驗，依客戶需求持續引進先進的熱處理設備，用心於各式熱處理製程，並致力創新研發新世代熱處理工藝，精益求精，利益共享，自始至終秉持誠信原則與顧客合作，以達成公司永續經營的目標，並期盼對業界有所貢獻。
龍雨企業股份有限公司的服務項目包括『真空熱處理』、『精密工具鍍膜』、『真空氮化』、『超深冷處理』、『全系列不銹鋼特殊處理』、『真空鈹銅時效硬化』、『球化退火等熱處理』與『微觀組織金相分析』等八項服務項目。其中精密工具鍍膜的硬質薄膜種類包括TiN、TiCN、TiAlN、TRD (Thermal Reactive Deposition)與TD (Toyota diffusion)等，其應用領域包括衝壓膜、鍛造膜、粉末成型膜、鋁壓鑄模與切刀、銑刀、滾齒、鑽頭、絲攻等刀具表面的硬化。
這些鍍膜的應用優勢包括：
1. 可改善塑膠模具之脫模性並延長模仁壽命。
2. 可提升鋁壓鑄模、沖壓模具之耐磨耗，並延長壽命與易脫膜之優點。
3. 可提升切刀、銑刀、滾齒、鑽頭、絲攻等刀具耐磨耗並改善排屑。
4. 可提升冷作模具及冷鍛沖具之耐磨耗並防止沾粘。
5. 可提升機械零組件的表面平滑度、耐磨耗、降低噪音。
龍雨企業股份有限公司的地址是702-台南市新樂路10號，
電話：06-2630911，傳真：06-2630913，
公司網頁www.lonyu.com，該公司竭誠歡迎國內外相關產業與該公司聯繫。
本協會非常歡迎產業界與相關公司加入本協會成為永久會員，也歡迎個人加入會員，請與本協會秘書林俞伶小姐聯繫。
8.學術交流
在磁控濺鍍製程當中，為了提高氬氣離化率以轟擊靶材，進而增加濺鍍效率，因此於靶槍背後加上磁場，以增加電子碰撞氬氣的機率是極為重要的方法；所以靶槍的磁鐵配置方式對於鍍膜製程的效率與薄膜成份及厚度的均勻性有極大的影響。
根據Kelly與Arnell[1]的研究，磁控濺鍍靶槍可分為傳統式(或稱平衡式)、第一型非平衡式與第二型非平衡式三種，其磁鐵配置如圖1所示，其中的差異主要是內外圈的磁鐵強度差異；平衡式磁控濺鍍靶槍的內外圈磁鐵強度相同，因此電漿僅侷限於靶表面約60mm的高度，且其離子電流密度約小於1 mA/cm2。第一型非平衡式磁控濺鍍靶槍的內圈磁鐵強度高於外圈者，因此電漿亦同樣侷限於靶表面約60mm的高度，且其離子電流密度遠小於1 mA/cm2。第二型非平衡式磁控濺鍍靶槍的外圈磁鐵強度高於內圈者，因此其磁力線向外擴張，所產生的電漿則可涵蓋靶表面與底材之間的空間，其離子電流密度介於2~10 mA/cm2。由於濺鍍率正比於靶槍電流，也正比於離子電流密度，因此從這三種不同的磁鐵配置方式，就可以明顯看出其個別設計對於鍍膜速率的差異。
然而必須注意的是，第一型非平衡式磁控濺鍍靶槍的磁鐵設計可以降低基材的離子電流，因而可以製造多孔狀的金屬活性薄膜，亦是一種截然不同的薄膜製程方式。
若是使用雙靶槍共濺鍍方式來沉積薄膜，兩支靶槍的磁鐵配置方式也非常重要，圖2為Kelly與Arnell [1] 研究雙靶槍共濺鍍的靶槍磁鐵配置方式，可分成 同面閉場式(雙靶同一邊放置)、 垂直閉場式(雙靶面對面放置)與鏡像式(雙靶面對面放置)等類型。
圖1、磁控濺鍍靶槍的磁鐵配置圖[1] 圖2、雙靶槍共濺鍍的靶槍磁鐵配置的三種方式[1]
其中值得注意的是雙靶同一邊放置(同面閉場式)的時候，兩支靶槍 (都是第二型非平衡式磁控濺鍍靶槍) 的磁鐵配置必須相反，例如一支靶槍的外圈磁極是N極，另一支靶槍的外圈磁極就必須是S極，如此才能使磁力線連貫，所產生的電漿就可以均勻分布於基材表面，使得鍍膜成分與厚度較為均勻。若是兩支靶槍面對面放置來進行鍍膜，其磁場配置亦必須相反，才能使電漿連貫，而不會發生如鏡像式(雙靶面對面放置)的狀況，由於磁力線相互排斥而導致電漿出現互斥的現象。
圖3為Musil 等人[2]使用上述不同磁場極性雙靶槍與相同極性雙靶槍的電漿產生照片，可明顯觀察到不同磁鐵極性可以使電漿連貫，而相反的，若是兩支靶槍的磁鐵配置都一樣的時候，產生的電漿將會相互排斥而產生俗稱「電漿打架」的情形，例如在鍍製TiOx 薄膜的鍍率從每分鐘31.5nm降為26.5 nm。由以上的文獻資料可知，無論是單一支靶槍或兩支靶槍共濺鍍的磁鐵配置都對於鍍膜速率、薄膜成份與厚度的均勻性產生莫大的影響，是進行薄膜製程研究與製造生產時必須注意的重要事項。(資料編輯整理：明志科技大學材料工程系李志偉)
圖3、雙靶槍共濺鍍時，使用不同磁場極性雙靶槍(左圖)與相同極性雙靶槍(右圖)的生成電漿照片[2]
參考資料:
1.P. J. Kelly, R. D. Arnell, Vacuum, 56 (2000)159.
2.J. Musil et al., Thin Solid Films 475 (2005)208.
電子報編輯群
李志偉 (明志科大材料系)、張麗君 (明志科大材料系)、水瑞鐏 (虎尾科大電子系)、
陳弘穎 (高雄應用科大化工材料系)、吳芳賓 (聯合大學材料科學工程系)
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